検索ワード: photoetching (英語 - フランス語)

a method of photoetching polyesters.
procédé pour la photogravure des polyesters.

photoetching process for making surgical needles
procédé de photogravure pour la fabrication d'aiguilles chirurgicales

ultraviolet-absorbing polymer material and photoetching process.
materiau polymere absorbant les ultraviolets et procede de photogravure.

a method for producing nanoparticles through size-selective photoetching
procédé de préparation de particules nanométriques par gravure photo

process of photoetching of superficial coatings based on polymeric materials
procédé de photoattaque de recouvrements superficiels à base de matériaux polymères

acoustic printhead and photoetching of acoustic lenses for acoustic ink printing
tête d'impression acoustique et photogravure de lentilles acoustiques pour l'impresion

furthermore, gold is a material whose use is perfectly mastered in photoetching.
en outre, l'or est un matériau parfaitement maítrisé en photogravure.

the method includes a photoetching step and a doping step illustrated in fig. 2b.
le procédé comporte tout d'abord une étape de photogravure et une étape de dopage illustrées à la figure 2b.

production starts by depositing the circuit 18 on the insulating support 16 by photoetching.
on commence par déposer, par photogravure, le circuit 18 sur le support isolant 16.

material for self-developing photoetching in the near uv range and process for producing it
materiau pour photogravure a auto-developpement dans le domaine proche uv et procede pour sa production

the formation of the aperture 6 in layer 5 is formed by a resist deposition and photoetching step.
bien entendu, la réalisation de l'ouverture 6 dans la couche 5 implique une étape de dépôt de résine et de photogravure.

any conventional photoetching method can be used to define circular patterns in layer 20 as well as gate rows 3.
on peut mettre en oeuvre tout procédé classique de photolithogravure pour définir dans la couche 20 les motifs circulaires ainsi que les lignes de la grille 3.

for either kind of detection, the turntable may be made by a metallization technique or by a photoetching technique.
dans les deux cas de détection, le plateau peut être réalisé par une technique de métallisation ou par photogravure.

the invention also relates to a method for manufacturing such a device by etching, by photoetching or by ion doping.
l'invention concerne également un procédé de réalisation d'un tel dispositif par gravure, par photogravure ou par dopage ionique.

finally, the photoetching approach can be used to obtain steep flanks 79 of strips 8 constituting the bars of the test chart.
enfin, la solution de la photogravure permet d'obtenir des flancs raides 79 de rubans 8 constituant les montants de la mire.

the invention relates to microlithography, in particular to the writing of photomasks for computer displays, microelectronic devices, and precision photoetching
l'invention concerne la microlithographie et notamment la réalisation de photomasques pour les écrans d'affichage d'ordinateurs, les dispositifs microélectroniques et la photogravure de précision

7, the mask 16 comprises a recessed zone 17 obtained, for example, by photoetching at the position corresponding to the future via 12 .
sur la figure 7, le masque 16 comprend une zone évidée 17, obtenue par exemple par photogravure à l'emplacement correspondant au futur via 12.

described is a metal screen material obtained by photoetching having a ratio of depth etching to lateral etching between 1,5 and 5, the etching factor
la présente invention décrit un matériau pour cribles en métal obtenu par photoattaque, dont le rapport entre la profondeur d'attaque et la longueur de l'attaque latérale est compris entre 1,5 et 5, ce rapport étant le facteur d'attaque

preferably, these tags will be made on the silicon substrate, on the contact pads, by any suitable technique (photoetching).
de préférence, on réalisera ces plots sur le substrat silicium, sur les plages de contact, par toute technique adaptée (photogravure).

a method according to claim 15, further comprising the step of depositing an insulation layer with desired pattern by photoetching, wherein said step occurs before the step of depositing the conductive polymer layer.
méthode selon la revendication 15, comprenant en outre l'étape de dépôt d'une couche isolante avec un profil souhaité par photogravure, dans laquelle ladite étape a lieu avant l'étape de dépôt de la couche polymérique conductrice.