검색어: dampudfældning (덴마크어 - 핀란드어)

kemisk dampudfældning
chemical vapour deposition (kemiallinen kaasufaasipinnoitus)

kemisk dampudfældning (cvd)
kemiallinen kaasu-faasipinnoitus (cvd)

fysisk dampudfældning (pvd): katodebueudladning
katodikaari-purkaus pvd

fysisk dampudfældning (pvd): "laser"-fordampning
"laser"- pvd

fysisk dampudfældning (pvd): elektronstråle (eb-pvd)
pvd tai eb-pvd

fysisk dampudfældning ved termisk fordampning (te-pvd)
terminen höyrystys-fysikaalinen höyrypinnoitus (te-pvd)

ion-assisteret modstandsopvarmning fysisk dampudfældning (pvd) (ionplettering)
ioniavusteinen resistiivinen kuumennus pvd (ioni pinnoitus)

electron beam physical vapour deposition (fysisk dampudfældning med elektronstråle)
electron beam physical vapour deposition (elektronisuihkun avulla tapahtuva fysikaalinen kaasufaasipinnoitus)

metal organic chemical vapour deposition (metal-organisk kemisk dampudfældning)
metal organic chemical vapour deposition (metalliorgaaninen kemiallinen kaasufaasipinnoitus)

udstyr til kemisk dampudfældning af grundstoffer eller forbindelser på opvarmede, trådede substrater til fremstilling af siliciumcarbidfibre.
laitteistot, joilla valmistetaan piikarbidikuituja pinnoittamalla kuumennettuja kuitusubstraatteja alkuaineilla tai yhdisteillä kemiallista kaasufaasipinnoitus-menetelmää (cvd) käyttäen;

dette omfatter processer, hvor ion-implanteringen sker samtidig med fysisk dampudfældning med elektronstråle eller "sputter"-belægning. kategori 3 elektronik 3a systemer, udstyr og komponenter
tämä sisältää prosessit, joissa ioni-istutus suoritetaan samanaikaisesti elektronisuihku-pvd:llä tai sputteroinnilla.

"programstyret" kemisk dampudfældnings udstyr (cvd) med samtlige følgende egenskaber:
"ohjelmallisesti ohjatut" tuotantolaitteet kemiallista kaasufaasipinnoitusta varten (cvd), joilla on molemmat seuraavista ominaisuuksista: