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conventional lithography

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conventional

그리스어

Συνθήκη

마지막 업데이트: 2013-08-22
사용 빈도: 8
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영어

optical lithography

그리스어

οπτική λιθογραφία

마지막 업데이트: 2014-11-14
사용 빈도: 5
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영어

photo-lithography

그리스어

φωτο-λιθογραφία

마지막 업데이트: 2014-11-14
사용 빈도: 5
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추천인: IATE

영어

glass for lithography

그리스어

γυαλί λιθογραφίας

마지막 업데이트: 2014-11-14
사용 빈도: 5
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영어

lithography equipment as follows:

그리스어

Εξοπλισμός λιθογραφίας, ως εξής:

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 4
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추천인: IATE

영어

stored programme controlled lithography

그리스어

λιθογραφία ελεγχόμενη με ενταμιευμένο πρόγραμμα

마지막 업데이트: 2014-11-15
사용 빈도: 5
품질:

추천인: IATE

영어

step and flash imprint lithography (s-fil) tools

그리스어

Τα εργαλεία εντυπωτικής λιθογραφίας με βήμα και λάμψη (step-and-flash)

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 3
품질:

추천인: IATE

영어

imprint lithography equipment capable of producing features of 95 nm or less;

그리스어

Εξοπλισμός εντυπωτικής λιθογραφίας ικανός να παράγει λεπτομέρειες διαστάσεων 95 nm και κάτω.

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 3
품질:

추천인: IATE

영어

i. imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3a001.

그리스어

Μακέτες εντυπωτικής λιθογραφίας σχεδιασμένες για τα ηλεκτρονικά κυκλώματα που προσδιορίζονται στο 3Α001.

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 3
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추천인: IATE

영어

commission approves dutch grants of euro 109 million for two lithography projects called fluor and extatic

그리스어

Η Επιτροπή επιτρέπει στην ολλανδική κυβέρνηση να χορηγήσει επιδοτήσεις ύψους 109 εκατ. ευρώ σε δύο σχέδια λιθογραφίας με τον τίτλο fluor και extatic

마지막 업데이트: 2017-04-26
사용 빈도: 1
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영어

n.b.:for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.

그리스어

ΣΗΜ.:Για τα οπτικά κάτοπτρα τα ειδικά σχεδιασμένα για λιθογραφικό εξοπλισμό, βλ. σημείο 3b001.

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 3
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추천인: IATE

영어

n.b.:for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.

그리스어

Σημείωση:Για τα ασφαιρικά οπτικά στοιχεία που έχουν ειδικά σχεδιαστεί για εξοπλισμό λιθογραφίας, βλ. 3b001.

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 2
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추천인: IATE

영어

n.b.: for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001

그리스어

Σημ.: Για τα "Λέιζερ" διηγερμένου διατομικού μορίου τα ειδικά σχεδιασμένα για λιθογραφικό εξοπλισμό βλ. σημείο 3Β001

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 2
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영어

positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;

그리스어

Θετικά φωτοανθεκτικά υλικά για λιθογραφικές εργασίες με ημιαγωγούς, ειδικώς ρυθμισμένα (αριστοποιημένα) για χρήση σε μήκη κύματος κάτω από 245 nm,

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 5
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추천인: IATE

영어

histoire du soldat, illustrée de lithographies originales par hans erni.

그리스어

histoire du soldat, illustrée de lithographies originales par hans erni.

마지막 업데이트: 2016-03-03
사용 빈도: 1
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