검색어: photomask (영어 - 네덜란드어)

인적 기여

전문 번역가, 번역 회사, 웹 페이지 및 자유롭게 사용할 수 있는 번역 저장소 등을 활용합니다.

번역 추가

영어

네덜란드어

정보

영어

photomask

네덜란드어

masker

마지막 업데이트: 2014-11-14
사용 빈도: 5
품질:

추천인: IATE

영어

photomask key

네덜란드어

fotomasker-uitrichtingshulp

마지막 업데이트: 2014-11-13
사용 빈도: 3
품질:

추천인: IATE

영어

photomask transmittance

네덜란드어

helderheid van een fotomasker

마지막 업데이트: 2019-05-31
사용 빈도: 4
품질:

추천인: IATE

영어

photomask compacts:

네덜란드어

bergingsmiddelen voor fotomaskers:

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 1
품질:

추천인: IATE

영어

photomask exposure unit

네덜란드어

belichtingseenheid voor fotomaskers

마지막 업데이트: 2014-11-13
사용 빈도: 3
품질:

추천인: IATE

영어

chemically-reversed photomask

네덜란드어

chemisch omgekeerd fotomasker

마지막 업데이트: 2014-11-13
사용 빈도: 3
품질:

추천인: IATE

영어

photomask or wafer compacts:

네덜란드어

bergingsmiddelen voor fotomaskers of wafers:

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 1
품질:

추천인: IATE

영어

fitted with a specially designed retainer system that protects the photomask from surface or cosmetic damage and

네덜란드어

voorzien van een speciaal bevestigingssysteem om het fotomasker tegen beschadiging van het oppervlak en cosmetische beschadiging te beschermen, en

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 1
품질:

추천인: IATE

영어

fitted with a specially designed retainer system that protects the photomask or wafers from surface or cosmetic damage and

네덜란드어

voorzien van een speciaal bevestigingssysteem om het fotomasker of de wafers tegen beschadiging van het oppervlak en cosmetische beschadiging te beschermen, en

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 1
품질:

추천인: IATE

영어

the product is to be exposed and developed to become a ‘photomask’ used in the production of semiconductor devices.

네덜란드어

na belichting en ontwikkeling wordt het product een „belichtingsmasker” dat wordt gebruikt bij de vervaardiging van elementen van halfgeleidermateriaal.

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 1
품질:

추천인: IATE

영어

for inspecting semiconductor wafers or devices or for inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices

네덜란드어

voor het verifiëren van halfgeleiderschijven of -schakelingen of voor het verifiëren van fotomaskers of van patroonmaskers of systeemmaskers („reticles”) die worden gebruikt bij de vervaardiging van elementen of schakelingen van halfgeleidermateriaal

마지막 업데이트: 2014-11-21
사용 빈도: 5
품질:

추천인: IATE

인적 기여로
7,746,479,551 더 나은 번역을 얻을 수 있습니다

사용자가 도움을 필요로 합니다:



당사는 사용자 경험을 향상시키기 위해 쿠키를 사용합니다. 귀하께서 본 사이트를 계속 방문하시는 것은 당사의 쿠키 사용에 동의하시는 것으로 간주됩니다. 자세히 보기. 확인