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the solution was filtered through a filter of 0.2 μm pore diameter and whirler-coated at 3,100 rpm onto a wafer treated with an adhesion promoter (hexamethyldisilazane).
es wurde eine beschichtungslösung hergestellt aus die lösung wurde durch ein filter mit einem porendurchmesser von 0,2 µm filtriert und auf einen mit einem haftvermittler (hexamethyldisilazan) behandelten wafer bei 3.100 umdrehungen aufgeschleudert.