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chemische dampfabscheidung
chemical vapour deposition

photochemische dampfabscheidung.
photo-assisted cvd.

gerät zur dampfabscheidung
vapor deposition apparatus.

vorrichtung zur chemischen dampfabscheidung
chemical vapor deposition apparatus

verfahren zur photochemischen dampfabscheidung.
improved photochemical vapor deposition method.

anlage zur dampfabscheidung von dünnschichten
thin-film vapor deposition apparatus

verfahren für die chemische dampfabscheidung.
process for chemical vapor deposition.

mit physikalischer dampfabscheidung beschichtetes schneidewerkzeug
pvd coated cutting tool

chemische dampfabscheidung von ruthenium-filmen
chemical vapor deposition of ruthemium films

chemische dampfabscheidung von metalloxid-filmen.
chemical vapor deposition of metal oxide films.

verfahren zur dampfabscheidung von photoleitendem material.
process of vapor depositing photoconductive material.

plasma unterstÜtzte polymer dampfabscheidung auf kÖrpern
plasma enhanced polymer deposition onto fixtures

nukleationsvergrÖsserung fÜr die chemische dampfabscheidung von diamanten.
nucleation enhancement for chemical vapor deposition of diamond.

verfahren und vorrichtung zur ionisierten physikalischen dampfabscheidung
method and apparatus for ionized physical vapor deposition

verfahren zur opalisierung von lampen durch dampfabscheidung.
process for the opalisation of lamps by the vapour phase.

chemische dampfabscheidung unter verwendung von einem jodidvorläufer
cvd of metals using iodide precursor

mittels im wesentlichen orthogonaler dampfabscheidung abgekapselte feldemissionsvorrichtung.
field emission device encapsulated by substantially normal vapor deposition.

oberflÄchenbehandlung mittels physikalischer dampfabscheidung mit kompensierung der ungleichfÖrmigkeit
physical vapor processing of a surface with non-uniformity compensation

verfahren zur selektiven ablagerung bei physikalischer dampfabscheidung (pvd).
process for selective physical vapour deposition.

durch chemische dampfabscheidung gebildete freistehende siliciumcarbidgegenstÄnde und herstellungsverfahren dafÜr
free-standing silicon carbide articles formed by chemical vapor deposition and methods for their manufacture