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gasphasenabscheidung

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glimmentladungsaktivierte gasphasenabscheidung

Frans

depot chimique en phase vapeur genere par decharge luminescente

Laatste Update: 2014-12-03
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gasphasenabscheidung von halbleitermaterial

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dépôt en phase vapeur de matériaux semi-conducteur

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anlage zur plasmaaktivierten gasphasenabscheidung

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dispositif de dépôt en phase vapeur utilisant un plasma

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material zur gasphasenabscheidung und herstellungsverfahren

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materiau de metallisation sous vide et procede de production

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fluorfreie metallkomplexe zum chemische gasphasenabscheidung

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complexes metalliques exempts de fluor pour le depot chimique de metaux en phase gazeuse

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brenner fÜr die chemische gasphasenabscheidung von glas

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bruleur pour depot chimique en phase vapeur de verre

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verfahren zur chemischen gasphasenabscheidung von siliziumnitrid.

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procédé de dépôt en phase vapeur de nitrure de silicium.

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fluorpolymer-zwischenschichtdielektrikum durch chemische gasphasenabscheidung

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dielectrique intercouches en fluoropolymeres forme au moyen d'un procede de depot chimique en phase vapeur

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chemische gasphasenabscheidung von mit antimon dotiertem metalloxid

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depot chimique en phase vapeur d'un oxyde metallique dope a l'antimoine

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chemische gasphasenabscheidung von diamantschichten auf harten substraten.

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dépÔt chimique en phase vapeur de couches de diamant sur des substrats durs.

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kombination gasphaseninfitration/gasphasenabscheidung und wärmebehandlungs-aufnehmerdeckel

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couvercle de suscepteur pour infiltration/dépôt chimique en phase vapeur et pour traitement thermique

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hybride ionisierte physikalische gasphasenabscheidung von via- und grabenlinern

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dépôt physique hybride en phase vapeur ionisée de revêtements dans des trous traversants

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hydrazinaddukt von dialkylgalliumazid als molekulare vorstufe für gasphasenabscheidung von gan

Frans

composé d'addition constitué de dialkylgallium azide et d' hydrazine pour dépôt de gan sous forme de films par dépôt chimique en phase vapeur

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gasphasenabscheidung von einer pb5ge3o11-dünnschicht für ferroelektrische anwendungen

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déposition d'une couche mince de pb5ge3o11 par dépôt chimique en phase vapeur pour des applications ferroelectrique

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herstellung von hybridelektroden fÜr ferroelektrische schaltungsanordnungen mittels chemischer gasphasenabscheidung

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fabrication d'electrodes hybrides pour structures de dispositifs ferroelectriques par depot chimique en phase vapeur

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verfahren zur herstellung von kuppeln mit hohem aspektverhältnis mittels gasphasenabscheidung

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méthode de production de dômes à rapport de forme élevé par dépôt en phase vapeur

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gasphasenabscheidung von siliziumoxidfilmen unter verwendung von alkylsiloxan-oligomeren und ozon

Frans

depot chimique en phase vapeur de films a l'oxyde de silicium au moyen d'oligomeres d'alkylsiloxane avec de l'ozone

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vorrichtung und verfahren zur kontinuierlichen gasphasenabscheidung unter atmosphÄrendruck und deren verwendung

Frans

dispositif et procede de separation continue en phase gazeuse sous pression atmospherique et leurs utilisations associees

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lewis addukte von aluminium organylen zur erzeugung aluminiumhaltiger schichten durch gasphasenabscheidung

Frans

composé d'addition constitué d'un composé d'organyl d'aluminium pour dépôt d'aluminium sous forme de films par dépôt chimique en phase vapeur

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epitaxie von iii-v-gruppen-verbindungen durch metallorganische gasphasenabscheidung.

Frans

croissance épitaxiale de composés iii-v par la déposition à partir de vapeurs métalorganiques.

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