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reduced etch stop layer erosion
verringerte errosion der Ätzstopschicht

integrated circuit with etch stop layer
integrierte schaltung mit Ätzstopschicht

etch stop layer system for sige devices
Ätzstopp-schichtzusammensetzung fÜr sige-halbleiteranordnungen

silicon-germanium etch stop layer system
Ätzstopsystem aus silizium-germanium-schichten

chip interconnection having a breathable etch stop layer.
chip-verbindung mit gasdurchlÄssiger Ätzsperrschicht.

etch-stop resins
Ätzstopp harze

method and apparatus for depositing an etch stop layer
verfahren und vorrichtung zum auftragen einer Ätz-stoppschicht

metal-to-metal antifuse including etch stop layer.
antifuse zwischen zwei metallschichten mit Ätzsperrschicht.

etch process and etch stop layer for manufacturing of semiconductor wafers
Ätzverfahren und Ätzsignalschicht zur prozessierung von halbleiterwafern

process for fabricating semiconductor device including antireflective etch stop layer
verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit einer antireflektierendeen Ätzstoppschicht

method of manufacturing a borderless contact on bit line stud with etch stop layer
herstellungsverfahren von einem randlosen kontakt auf bitleitungskontaktstutzen mit einer Ätzstopschicht

method of forming a silicon etch stop layer for an integrated optical component
methode zur herstellung einer Ätz-stoppschicht aus silizium für ein bauteil der integrierten optik

metal gate stack with etch stop layer improved through implantation of metallic atoms
metal-gate stapel mit einer verbesserten Ätzstopschicht durch ionimplantation von metalatomen

method of characterizing group iii-v epitaxial semiconductor wafers incorporating an etch stop layer
charakterisierung einer iii-v epitaktischen halbleiterscheibe, die eine Ätzstoplage beinhaltet

high density selective sio2:si3n4 etching using a stoichiometrically altered nitride etch stop layer
selektive Ätzung mit hoher dichte von sio2:si3n4 mittels einer Ätz-stopschicht aus stöchiometrisch geändertem nitrid

nitride offset spacer to minimize silicon recess by using poly reoxidation layer as etch stop layer
verfahren zur benutzung einer polyreoxidationsschicht als Ätzsperrschicht

a method for fabrication of multi-step structures using embedded etch stop layers
verfahren zur erzeugung von abgestuften strukturen unter einsatz von eingebetteten Ätzstopschichten

use of conductive electrolessly deposided etch stop layers, liner layers and via plugs in interconnect structures
verwendung stromlos abgeschiedener Ätzstoppschichten, auskleidungsschichten und kontaktstopfen in verbindungsstrukturen