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for example, diazonaphthoquinone (dnq) absorbs strongly from approximately 300 nm to 450 nm.
ainsi par exemple, le dnq absorbe entre 300 et 450 nm approximativement.

dnq inhibits the dissolution of the novolac resin, but upon exposure to light, the dissolution rate increases even beyond that of pure novolac.
la dnq inhibe la dissolution de la résine novolaque, cependant, sous exposition de lumière, le taux de dissolution croît même au-delà de celui de la novolaque pure.

a water soluble polymer that forms a positive working photoresist that can be used at i-line wavelengths. the polymer is essentially comprised of a backbone coupled by linkage groups to two pendant groups. the first pendant group is a β-keto carboxylate moiety. this functional group is designed to undergo a thermal elimination polarity switch to a water-insoluble ketone. a second linkage group couples a diazonapthoquinone (dnq) moiety via a 4-sulfonate group, to the backbone. this dnq moiety undergoes a common photochemical rearrangement to a water-soluble indene carboxylic acid. after application to a substrate the photoresist film is transformed to a water insoluble state by heating. this causes the β-keto carboxylate salt to undergo both hoffman degradation and decarboxylation, liberating ammonia and co2 and yielding an aliphatic ketone. subsequently, during the exposure fabrication step, the now water insoluble photoresist undergoes a common photochemical rearrangement reaction at the dnq site, which yields an indene carboxylic acid. the polymer product, in the exposed regions, which contains the highly polar carboxylic acid group, is now soluble in aqueous base developer. as the starting polymer undergoes two solubility switches, from water soluble to insoluble (after heating) and back to soluble (after irradiation), the photoresist will create a positive image when developed from an aqueous base.
l'invention concerne un polymère soluble dans l'eau qui forme une résine négative pouvant être utilisée à des longueurs d'onde en ligne. ce polymère est essentiellement constitué d'un squellette lié par des groupes de liaison à deux groupes pendants. le premier groupe pendant est une fraction β-céto-carboxylate. ce groupe fonctionnel peut être soumis à un changement de polarité par élimination thermique pour le transformer en cétone insoluble dans l'eau. un deuxième groupe de liaison lie une fraction diazonaphtoquinone (dnq) au squellette par l'intermédiaire d'un groupe 4-sulfonate. cette fraction dnq subit une réorganisation photochimique classique qui la transforme en acide carboxylique d'indène soluble dans l'eau. après application sur un substrat, le film de résine est rendu insoluble dans l'eau par chauffage. ce procédé fait subir au sel β-céto-carboxylate à la fois une dégradation et une décarboxylation de hoffman permettant de libérer de l'ammonium et du co2 et de produire un cétone aliphatique. ensuite, pendant l'étape de fabrication par exposition, la résine devenue insoluble dans l'eau subit une réaction de réorganisation photochimique classique au niveau du site dnq, et produit un acide carboxylique d'indène. dans les régions soumises à exposition, le produit polymérique contenant le groupe acide carboxylique hautement polaire, devient soluble dans un révélateur à base aqueuse. une fois le polymère de départ soumis à deux transformations de solubilité (de l'état soluble dans l'eau à l'état insoluble dans l'eau (par chauffage), puis retour à l'état soluble (par irradiation)), la résine crée une image positive lorsqu'elle est mise au point à partir d'une base aqueuse.