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etcher
graveur à l'eau-forte

grid etcher
appareil de gravure sur grille

half-tone etcher
similiste

configurable bevel etcher
graveur en chanfrein configurable

bevel etcher with gap control
graveur biseautÉ avec contrÔle d'espace

etching method and plasma etcher
procede de gravure et appareil de gravure par plasma

in-situ contril of a dry etcher
controle sur site d'un graveur sec

at least one ion assisted etcher in the etching zone
au moins un dispositif d'attaque chimique assistée par ions dans la zone d'attaque chimique

method and system for distributing gas for a bevel edge etcher
procédé et système de distribution de gaz pour un graveur à coin biseauté

the system includes an integrated grinder and etcher for processing single wafers.
le système comprend une ponceuse et un graveur intégrés destinés au traitement de plaquettes uniques.

1869)*1927 – paul césar helleu, french painter and etcher (b.
* 1927 : paul helleu, peintre français (° ).

methods for running a high density plasma etcher to achieve reduced transistor device damage
procede de commande d'un appareil de gravure par plasma haute densite, destine a diminuer tout endommagement d'un dispositif a transistor

an enhanced resist strip in a dielectric etcher using downstream plasma and plasma apparatus used therefor
decapage ameliore dans un dispositif de gravure dielectrique grace a du plasma a effluents et machine Ä plasma associee

method of etching doped silicon dioxide with selectivity to undoped silicon dioxide with a high density plasma etcher
procede permettant de graver du dioxyde de silicium dope a l'aide d'un graveur plasmique de haute densite tout en maintenant une selectivite envers le dioxyde de silicium non dope

the bevel etcher includes a vacuum chuck and a plasma generation unit which energizes process gas into a plasma state
l'appareil de gravure à biseau comprend un mandrin à vide et un module de génération de plasma qui donne au gaz de traitement une énergie pour le faire passer à l'état de plasma

a plasma etching method for setting a large etching ratio and forming a properly shaped hole, and a plasma etcher
un procédé de gravure au plasma permettant de réaliser une grande proportion de gravure et de former un trou correctement mis en forme, ainsi qu'un appareil de gravure par plasma

a plasma etching method for setting a large etching ratio and forming a properly shaped hole, and a plasma etcher.
la présente invention concerne un procédé de gravure au plasma permettant de réaliser une grande proportion de gravure et de former un trou correctement mis en forme, ainsi qu'un appareil de gravure par plasma.

john mulcaster carrick (1833 – 22 september 1896) was a british painter, etcher and illustrator.
john mulcaster carrick (1833 - 22 septembre 1896) est un peintre britannique d'origine écossaise proche du mouvement préraphaélite.

a coolant unit according to claim 1, wherein said semiconductor processing device (12) comprises a semiconductor etcher.
unité de refroidissement selon la revendication 1, dans laquelle ledit dispositif de traitement de semi-conducteurs (12) comprend un dispositif de gravure de semi-conducteurs.

lorenz frølich (25 october 1820 in hellerup25 october 1908, copenhagen) was a danish painter, illustrator, and etcher.
lorenz frølich, né à copenhague le 25 octobre 1820 et mort le 25 octobre 1908, est un peintre, illustrateur et aquafortiste danois.