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use according to claim 5, wherein the photoresist composition comprises a cresol novolak resin and an ester of polyhydroxybenzophenone with naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid.
utilisation selon la revendication 5, dans laquelle la composition de photoréserve comprend une résine novolaque de crésol et un ester de polyhydroxybenzophénone avec de l'acide naphtoquinone-1,2-diazidosulfonique.
Laatste Update: 2014-12-04
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the photoresist composition according to claim 2, wherein the novolak resin is a cresol novolak resin and the naphthoquinone compound is an ester of polyhydroxybenzophenone with naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid.
composition de photoréserve selon la revendication 2, dans laquelle la résine novolaque est une résine novolaque de crésol et le composé naphtoquinone est un ester de polyhydroxybenzophénone avec de l'acide naphtoquinone-1,2-diazidosulfonique.
Laatste Update: 2014-12-04
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process for the preparation of polyhydroxybenzophenones
procede de preparation de polyhydroxybenzophenones
Laatste Update: 2014-11-25
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