Je was op zoek naar: sih4 (Engels - Frans)

method for recycling silane (sih4)
procede de recyclage de silane (sih4)

a method for producing silane (sih4) by
procédé de production de silane (sih4) par

utilization of sih4, soak and purge in deposition processes
impregnation et purge au sih4 utilisees dans des processus de depot

thermal decomposition of the sih4 to give high purity silicon.
décomposition thermique du sih4 pour l'obtention de silicium extrapur.

disproportionating the partial stream containing sihcl3, to form sicl4 and sih4 and
dismutation du courant partiel renfermant sihcl3 en sicl4 et sih4, et

coincidences between the v4 fundamental band of sih4 and n2o infrared laser lines in the 10 μm region have been used.
les coincidences entre la bande fondamentale v4 de sih4 et des raies laser infrarouges de n2o dans la région de 10 μm ont été utilisées.

that is to be removed decomposes and below the temperature at which the hydrogenated sih4 gas made from si decomposes, whereby the boron
qui doit être retiré se décompose et au-dessous de la température à laquelle le sih4 gazeux hydrogéné obtenu à partir de si se décompose, ce par quoi le bore

, while maintaining substantially the same pressure and n2 flow rate during plasma treatment, sih4 ramp up and silicon nitride deposition
, tout en maintenant une pression et un débit de n2 sensiblement identiques durant le traitement au plasma, l'accélération du sih4 et le dépôt du nitrure de silicium

alternatively, the micro-feature can be exposed to (sih4 + hci).
dans une autre variante, le micro-éléments peut être exposé à (sih4 + hci).

next, the flow of wf6 and sih4 are stopped and diborane is introduced into the chamber for between 5 -25 seconds (step
l'étape suivante consiste à arrêter l'écoulement de wf6 et de sih4, puis à introduire du diborane dans cette chambre, pendant 5 à 25 secondes (étape

a process for the production of a silica coating on a glass substrate provides a precursor mixture of sih4, nh3, and o2, preferably in the presence of c2h4 and an inert carrier gas
un procédé de production d'une couche de silice sur un substrat de verre. on utilise à cet effet un mélange précurseur de sih4, nh3, et o2, de préférence en présence de c2h4 et d'un gaz vecteur inerte

after the last implant on a cmos device, silane (sih4) is deposited over the surface of the wafer using a chemical vapor deposition (cvd) tool
après le dernier implant sur un dispositif cmos, du silane (sih4) est déposé sur la surface de la plaquette, au moyen d'un outil de dépôt chimique en phase vapeur (dcpv)