Je was op zoek naar: lithography (Engels - Grieks)

lithography
λιθογραφία

optical lithography
οπτική λιθογραφία

photo-lithography
φωτο-λιθογραφία

glass for lithography
γυαλί λιθογραφίας

lithography equipment as follows:
Εξοπλισμός λιθογραφίας, ως εξής:

stored programme controlled lithography
λιθογραφία ελεγχόμενη με ενταμιευμένο πρόγραμμα

step and flash imprint lithography (s-fil) tools
Τα εργαλεία εντυπωτικής λιθογραφίας με βήμα και λάμψη (step-and-flash)

imprint lithography equipment capable of producing features of 95 nm or less;
Εξοπλισμός εντυπωτικής λιθογραφίας ικανός να παράγει λεπτομέρειες διαστάσεων 95 nm και κάτω.

i. imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3a001.
Μακέτες εντυπωτικής λιθογραφίας σχεδιασμένες για τα ηλεκτρονικά κυκλώματα που προσδιορίζονται στο 3Α001.

commission approves dutch grants of euro 109 million for two lithography projects called fluor and extatic
Η Επιτροπή επιτρέπει στην ολλανδική κυβέρνηση να χορηγήσει επιδοτήσεις ύψους 109 εκατ. ευρώ σε δύο σχέδια λιθογραφίας με τον τίτλο fluor και extatic

n.b.:for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.
ΣΗΜ.:Για τα οπτικά κάτοπτρα τα ειδικά σχεδιασμένα για λιθογραφικό εξοπλισμό, βλ. σημείο 3b001.

the objective of the fluor project is to carry out research on the application of so called 157 nanometre lithography.
Το σχέδιο fluor αναμένεται να επιτρέψει έρευνες για την εφαρμογή της προηγούμενης λιθογραφίας "157 νανόμετρα".

n.b.:for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.
Σημείωση:Για τα ασφαιρικά οπτικά στοιχεία που έχουν ειδικά σχεδιαστεί για εξοπλισμό λιθογραφίας, βλ. 3b001.

lithography concerns that part of chip production in which ultrafine electronic elements are created through the exposure of photoresistant materials to light.
Η λιθογραφία αποτελεί το μέρος της παραγωγής ηλεκτρονικών τσιπ κατά τη διάρκεια του οποίου δημιουργούνται εξαιρετικά λεπτά ηλεκτρονικά στοιχεία με την έκθεση στο φως φωτοαντιδραστικών υλικών.

the objective of the extatic project is to study the system aspects of extreme ultraviolet (euv) lithography.
Το σχέδιο extatic έχει ως σκοπό τη μελέτη των συστημικών πτυχών της λιθογραφίας euv (extreme ultraviolet).

mask making for 193 and 157 nm lithography for 100 and 70 nm feature sizes; focus is on reticle enhancement techniques and defect reduction.
- Κατασκευή μασκών λιθογραφίας 193 και 157 nm για μεγέθη χαρακτηριστικών 100 και 70 nm· έμφαση δίδεται σε τεχνικές βελτίωσης δικτυώματος και περιορισμό των σφαλμάτων.

positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;
Θετικά φωτοανθεκτικά υλικά για λιθογραφικές εργασίες με ημιαγωγούς, ειδικώς ρυθμισμένα (αριστοποιημένα) για χρήση σε μήκη κύματος κάτω από 245 nm,

in the area of lithography, which plays a key role in defining the precise structure of integrated circuits, the commission approved several r&d projects.275
Στον τομέα της λιθογραφίας, που διαδραματίζει ρόλο-κλειδί στον καθορισμό της ακριβούς διάρθρωσης των ενσωματωμένων κυκλωμάτων, η Επιτροπή ενέκρινε διάφορα σχέδια e&a275.

histoire du soldat, illustrée de lithographies originales par hans erni.
histoire du soldat, illustrée de lithographies originales par hans erni.