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filtre selon la revendication 4 dans lequel les seconde et troisième résistances ont chacune une résistance de 0,47 ohm environ.
filter nach anspruch 4, bei dem die zweiten und dritten widerstände jeweils einen widerstandswert von ungefähr 0,47 ohm haben.
la structure de la revendication 1, dans laquelle ledit substrat a une résistivité inférieure à 0,002 ohm-cm.
die struktur nach anspruch 1, wobei das substrat (p+) einen spezifischen widerstand von weniger als 0,002 ohm·cm aufweist.
appareil selon la revendication 6, dans lequel la résistivité du matériau de décharge est comprise dans la fourchette 10¹¹ à 10¹² ohm-cm.
vorrichtung nach anspruch 6, bei der der spezifische widerstand des trennmittelmaterials in einem bereich von 10¹¹ bis 10¹² ohm.cm liegt.
elément chauffant selon la revendication 1, dans lequel la résistance de l'élément est comprise entre 0,001 et 1,0 ohm.
ein heizelement nach anspruch 1, wobei der widerstand des elementes im bereich von 0,001 bis 1,0 ohm liegt.