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Laatste Update: 2018-02-13
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le matériau devant servir d'élément optique uv comporte un corps lithium magnésium aluminate (lmao)
the material for use as a uv optical element includes a lithium magnesium aluminate (lmao) body
Laatste Update: 2011-07-27
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le corps lmao possède certaines propriétés matérielles désirées et peut s'obtenir facilement dans des tailles relativement grandes convenant à une utilisation comme élément optique uv pour photolithographie.
the lmao body has certain desired material properties and may be readily made in relatively large sizes suitable for use as the uv optical element for photolithography.
Laatste Update: 2011-07-27
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cette invention concerne un matériau devant servir d'élément optique ultraviolet (uv) et particulièrement d'élément de lentille d'immersion de 193 nm. le matériau devant servir d'élément optique uv comporte un corps lithium magnésium aluminate (lmao). le composé spécifique pour cette application est la spinelle de lithium magnésium désordonnée, présentant la composition générale de lixmg2(1-x)al4+xo8 où x = 0 à 1 comme matériau transparent uv d'indice élevé pour lithographie par immersion. le corps lmao peut comporter une spinelle désordonnée, comme, par exemple, un simple cristal pouvant être cubique en symétrie, optiquement isotrope, et présentant un désordre cationique dans la structure pour réduire la biréfringence intrinsèque (ibr). le corps lmao possède certaines propriétés matérielles désirées et peut s'obtenir facilement dans des tailles relativement grandes convenant à une utilisation comme élément optique uv pour photolithographie.
this invention is related to material for use as an ultraviolet (uv) optical element and particularly for use as a 193 nm immersion lens element. the material for use as a uv optical element includes a lithium magnesium aluminate (lmao) body. the specific compound for this application is the disordered lithium magnesium spinel, having the general composition of lixmg2(1-x)ai4+xo8 where x = 0 to 1 as the high-index uv transparent material for immersion lithography. the lmao body may include a disordered spinel, such as, for example, a single crystal that may be cubic in symmetry, optically isotropic, and having cation disorder within the structure to reduce the intrinsic birefringence (ibr). the lmao body has certain desired material properties and may be readily made in relatively large sizes suitable for use as the uv optical element for photolithography.
Laatste Update: 2011-07-27
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