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des variables de processus particulièrement intéressantes au cours du dépôt du film, pour des films de ta et de tanx appliqués par pulvérisation, comprennent
process variables of particular interest during film deposition, for sputter-applied ta and tanx films, include the following
selon un procédé de dépôt chimique thermique en phase vapeur, la vapeur de tax5 est acheminée dans une chambre chauffée et combinée à un gaz azoté de traitement pour déposer un film tanx
in a thermal cvd process, tax5 vapor is delivered into heated chamber. the vapor is combined with process gas containing nitrogen to deposit tanx film in feature
le film bicouche déposé ta/tanx est utile pour des circuits intégrés comprenant des fils de cuivre, plus spécifiquement pour ceux ayant des caractéristiques de rapport de forme élevé même dans des structures de petite taille
the deposited ta/tanx bilayer film is useful for integrated circuits containing copper films, especially in small high aspect ratio features
(où r et r' peuvent être identiques ou différents l'un de l'autre et représenter respectivement un groupe alkyle ayant de 1 à 6 atomes de carbone) est coordiné à un élément tantale et un gaz d'halogène sont introduits dans une chambre de formation de film pour former un composé tanx
group (wherein r and r' may be the same as or different from each other and respectively represent an alkyl group having 1 -6 carbon atoms) is coordinated to a ta element and a halogen gas are introduced into a film formation chamber for forming a tanx
