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gegenstand mit verschleissfester isolationsbeschichtung.
article having insulation abrasion coated layer.

verfahren zum nitrieren eines silizium-substrates zur erzeugung einer isolationsbeschichtung
method for treating, by nitriding, a silicon substrate for forming a thin insulating layer

...und elektrische n isolationsbeschichtung zu versehen, so dass das beschichtete substrat für die produktion von solarzellen verwendet werden kann.
...und elektrischen isolationsbeschichtung zu versehen, so dass das beschichtete substrat für die produktion von solarzellen verwendet werden kann.

verwendung von kunststoffen mit polaren molekülgruppen zur isolationsbeschichtung von stopfen für injektions- und infusionsflaschen sowie beschichtete injektions- und infusionsflaschenstopfen
use of plastics with polar molecule groups for isolation coating of plugs for injection and infusion bottles and coated plugs for injection and infusion bottles

die streckung der spule ermöglicht auch das anschließende aufbringen einer isolationsbeschichtung, wobei abhängig von den anforderungen in bezug auf spannungsfestigkeit, schichtdicke und temperaturbeständigkeit verschiedene verfahren eingesetzt werden können.
stretching the coils allows for subsequent application of an insulation coating, for which a range of processes can be used, depending on the requirements on the electric strength, layer thickness and temperature resistance.

verfahren zur bewertung der zur erzeugung von isolationsbeschichtung verwendeten siloxane,beschichtungsflÜssigkeit verwendet zur erzeugung der isolationsbeschichtung,verfahren zur herstellung der flÜssigkeit,verfahren zur herstellung der isolationsbeschichtung fÜr halbleiterbauelemente,und verfahren zur herstellung von halbleiterbauelemente durch die anwendung von obigen verfahren
method of evaluating siloxane used for forming insulation coating, coating fluid used for forming insulation coating, process for producing the fluid, process for forming insulation coating for semiconductor device, and process for producing semiconductor device by applying the above process