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procédé pour laver un tampon de polissage auquel est attaché un composé insoluble dans l'eau contenant un atome métallique ou son ion, séparé d'une surface devant être polie après polissage chimique mécanique, caractérisé en ce que le tampon de polissage doit être mis en contact avec une composition pour laver un tampon de polissage, qui comprend un composant pour rendre soluble dans l'eau un composé insoluble dans l'eau contenant un atome métallique ou son ion séparé d'une surface devant être polie par polissage chimique mécanique, et qui a un ph supérieur à 8, ledit composant conférant une solubilité dans l'eau étant au moins l'un choisi dans le groupe constitué par l'ammoniac, l'hydroxyde de potassium, l'hydroxyde de tétraméthylammonium, l'hydroxyde de triméthyl-2-hydroxyéthylammonium, l'hydroxyde de méthyltrihydroxyéthylammonium, l'hydroxyde de diméthyldihydroxyéthylammonium, l'hydroxyde de tétraéthylammonium et l'hydroxyde de triméthyléthylammonium.
a method for washing a polishing pad to which a water-insoluble compound containing a metal atom or its ion separated from a surface to be polished after chemical mechanical polishing is attached, characterized in that a polishing pad is to be contacted with a composition for washing a polishing pad, which comprises a component for rendering a water-insoluble compound containing a metal atom or its ion separated from a surface to be polished by chemical mechanical polishing water-soluble, and has a ph of more than 8, wherein said component for rendering water-soluble is at least one selected from the group consisting of ammonia, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, trimethyl-2-hydroxyethylammonium hydroxide, methyltrihydroxyethylammonium hydroxide, dimethyldihydroxyethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide and trimethylethylammonium hydroxide.