来自专业的译者、企业、网页和免费的翻译库。
添加一条翻译
lithography
lithografie
最后更新： 2014-11-14 使用频率： 10 质量： 参考： IATE
colour lithography
kleurensteendrukkunst
最后更新： 2014-11-14 使用频率： 5 质量： 参考： IATE
photo-lithography
fotolithografie
最后更新： 2014-11-15 使用频率： 10 质量： 参考： IATE
glass for lithography
glas voor reproduktiedoeleinden
lithography equipment as follows:
lithografische apparatuur, als hieronder:
最后更新： 2014-11-21 使用频率： 5 质量： 参考： IATE
stored programme controlled lithography
met opgeslagen programma bestuurde lithografie
最后更新： 2019-05-31 使用频率： 6 质量： 参考： IATE
f. lithography equipment as follows:
最后更新： 2014-11-21 使用频率： 1 质量： 参考： IATE
step and flash imprint lithography (s-fil) tools
apparatuur voor s-fil (step and flash imprint lithography);
最后更新： 2014-11-21 使用频率： 4 质量： 参考： IATE
planographic techniques include lithography, monotyping, and digital techniques.
offset is tegenwoordig geheel afhankelijk van digitale technieken geworden.
最后更新： 2016-03-03 使用频率： 1 质量： 参考： IATE
current lithography still relies on photo masks for that purpose.
momenteel wordt in de sector voor dat doel nog gebruik gemaakt van fotomaskers.
最后更新： 2017-04-26 使用频率： 1 质量： 参考： IATE
for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor optische spiegels die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
therefore, urdu resorted to lithography while other languages adopted typeset.
daarom werd voor urdu lithografie gebruikt, terwijl andere talen werden gezet.
最后更新： 2016-02-24 使用频率： 1 质量： 参考： IATE
i. imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3a001.
i. imprintlithografie-templates ontworpen voor de in 3a001 gespecificeerde geïntegreerde schakelingen.
最后更新： 2014-11-21 使用频率： 2 质量： 参考： IATE
for excimer “lasers” specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor excimeer-„lasers” die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
’aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
n.b.:voor ’asferische optische elementen’, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
for ‘aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor ‚asferische optische elementen’, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
n.b.: for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.
nb: voor asferische optische elementen, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
n.b.: for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001
nb: voor excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
最后更新： 2014-11-21 使用频率： 3 质量： 参考： IATE警告：包含不可见的HTML格式
n.b.:for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001.
excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
最后更新： 2014-11-21 使用频率： 1 质量： 参考： IATE警告：包含不可见的HTML格式
