Von professionellen Übersetzern, Unternehmen, Websites und kostenlos verfügbaren Übersetzungsdatenbanken.
the source/drain regions of the individual memory transistors are fabricated with a source/drain implantation having a high dose or by means of an outdiffusion of dopant from a suitable layer, e.g., from polysilicon.
die source-/drain-bereiche der einzelnen speichertransistoren werden mit einer source-/drain-implantation hoher dosis oder durch eine ausdiffusion von dotierstoff aus einer geeigneten schicht, z. b. aus polysilizium, hergestellt.
