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oxide-aided outdiffusion
ausdiffusion durch die oxidschicht

n2o nitrided-oxide trench sidewalls to prevent boron outdiffusion and decrease stress
trench-seitenwÄnden aus n2o-nitriertem oxid zur verhinderung von bor-ausdiffusion und zur stress-reduzierung

the source/drain regions of the individual memory transistors are fabricated with a source/drain implantation having a high dose or by means of an outdiffusion of dopant from a suitable layer, e.g., from polysilicon.
die source-/drain-bereiche der einzelnen speichertransistoren werden mit einer source-/drain-implantation hoher dosis oder durch eine ausdiffusion von dotierstoff aus einer geeigneten schicht, z. b. aus polysilizium, hergestellt.