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i formati supplementari e gli obiettivi di sputtering prodotti a partire da composti di molibdeno sono disponibili su richiesta.
additional sizes and molybdenum target produced from molybdenum compounds are available upon request.
il processo di sputtering avviene sotto vuoto e si basa sull accelerazione di ioni argon per mezzo di un campo elettrico.
sputtering technology requires running the process under vacuum conditions and accelerating argon ions in an electric field.
mercurio utilizzato come inibitore dello sputtering dei catodi nei display cc al plasma che ne contengono fino a 30 mg fino al 1o luglio 2010.
mercury used as a cathode sputtering inhibitor in dc plasma displays with a content up to 30 mg per display until 1 july 2010.
l argon è utilizzato per la formazione di atmosfere inerti nei processi di sputtering, in cui l azoto è troppo reattivo e potrebbe portare alla formazione di nitruri.
argon is used to provide an inert environment for sputter deposition of metals (where even nitrogen is too reactive and leads to the formation of metal nitrides).
alcuni processi, quali lo sputtering, richiedono limitati volumi di gas, per cui l approvvigionamento più conveniente risulta essere quello tramite singole bombole.
some processes, such as sputtering, require only small volumes of gas, making single-cylinder usage of argon, for example, more economical.
È a sua volta distinguibile in varie tecnologie, le più comuni delle quali sono denominate "ad arco" e a "sputtering".
it is divided in different technologies such as "arch " and "sputtering".
attualmente non è possibile sostituire il mercurio utilizzato come inibitore dello sputtering dei catodi nei display cc al plasma che ne contengono fino a 30 mg; la sostituzione dovrebbe tuttavia essere possibile a partire dal 1o luglio 2010.
substitution for mercury used as a cathode sputtering inhibitor in dc plasma displays with content of up to 30 mg per display is currently technically impracticable, but should be practicable by 1 july 2010.
gli sputtering target di carburo di tungsteno vengono utilizzati, quasi sempre, per la realizzazione di rivestimenti dlc (“diamond-like carbon” – carbonio simile al diamante).
sputter targets made from tungsten carbide are mostly used for the production of dlc coatings (‘diamond-like carbon’).
