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mrie: no.
mrie: non.
Last Update: 2016-02-24
Usage Frequency: 1
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mrie: i have no idea.
mrie: je n'en ai aucune idée.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: it happened last november.
mrie: c'était en novembre.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: no, but it happened to me.
mrie: non, mais c'est arrivé à moi.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: now they are stuck in the middle.
mrie: a présent ils sont coincés en plein milieu.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: it started like every other city in syria.
mrie: cela a commencé comme dans toutes les villes de syrie.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: no, they kidnapped her in the middle of august.
mrie: non, on l'a enlevée au milieu d'août.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: the community hates the alawites who are with moaz al khatib.
mrie: la communauté hait les alaouites qui sont avec moaz al khatib.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: the problem in this community is that they won’t understand.
mrie: le problème de cette communauté c'est qu'elle ne comprend pas.
Last Update: 2016-02-24
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loubna mrie paid a steep price for her place in syria’s revolution.
loubna mrie a payé au prix fort sa place dans la révolution syrienne.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: in syria the shelling is still going on and everyday we have more dead people.
mrie: les bombardements se poursuivent toujours en syrie et chaque jour nous avons plus de morts.
Last Update: 2016-02-24
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mrie: that you deserved it and we wish that the same thing that happened to your mom will happen to you.
mrie: tu l'as mérité et nous souhaitons que ce qui est arrivé à ta mère t'arrive à toi aussi.
Last Update: 2016-02-24
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[0069] in accordance with the invention, the anisotropic etching of layer c is preferentially a reactive ion etching, which may be carried out by means of an rie (reactive ion etching) equipment, mrie (magnetically enhanced rie), tcp (transformer coupled plasma), icp (inductively coupled plasma), dps, ecr, decr or analogous.
conformément à l'invention, la gravure anisotrope de la couche c est de préférence une gravure ionique réactive, laquelle peut être réalisée au moyen d'un équipement du type rie (reactive ion etching), mrie (magnetically enhanced rie), tcp (transformer coupled plasma), icp (inductivally coupled plasma), dps, ecr, decr ou analogue.
Last Update: 2014-12-03
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