From professional translators, enterprises, web pages and freely available translation repositories.
procédé selon une ou plusieurs des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le réactif est du triméthylsilanol.
process according to one or more of claims 1 to 5, characterized in that trimethylsilanol is selected as reagent.
Last Update: 2014-12-04
Usage Frequency: 2
Quality:
préparation selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisée en ce qu'on utilise comme silanol le triméthylsilanol ou le vinyldiméthylsilanol.
preparation according to one of claims 1 to 6, characterized in that trimethylsilanol or vinyldimethylsilanol is used as the silanol.
Last Update: 2014-12-04
Usage Frequency: 2
Quality:
par exemple, le trajet d'écoulement est un courant de gaz comprenant de la silice volatile contenant des composés tels que l'hexaméthyldisiloxane et le triméthylsilanol
the flow path is a gas stream comprising volatile silica containing compounds such as hexamethyldisiloxane and trimethylsilanol
Last Update: 2011-07-27
Usage Frequency: 1
Quality:
par exemple, le trajet d'écoulement est un courant de gaz comprenant de la silice volatile contenant des composés tels que l'hexaméthyldisiloxane et le triméthylsilanol.
the flow path is a gas stream comprising volatile silica containing compounds such as hexamethyldisiloxane and trimethylsilanol.
Last Update: 2014-12-03
Usage Frequency: 1
Quality:
le triméthylsilanol (tms), appelé également triméthylhydroxysilane, est un silanol de formule semi-développée (ch3)3sioh.
trimethylsilanol (tms) is an organosilicon compound with the formula (ch3)3sioh.
Last Update: 2016-03-03
Usage Frequency: 1
Quality:
le procédé selon la revendication 1, dans lequel ledit composé (b) est choisi dans la classe formée par le triméthylsilanol, le diméthylvinylsilanol, le diméthylphénylsilanol et le triphénylsilanol.
the method according to claim 1 wherein said compound (b) is selected from the group consisting of trimethylsilanol, dimethylvinylsilanol, dimethylphenylsilanol and triphenylsilanol.
Last Update: 2014-12-04
Usage Frequency: 2
Quality:
la présente invention concerne un système de filtration pour un outil de traitement de semi-conducteur. dans un mode de réalisation, le système de filtration est associé à l'outil de traitement de semi-conducteur. un système de l'invention comprend une première et une seconde couche de filtre en communication fluide avec un trajet d'écoulement de gaz. par exemple, le trajet d'écoulement est un courant de gaz comprenant de la silice volatile contenant des composés tels que l'hexaméthyldisiloxane et le triméthylsilanol. le trajet d'écoulement de gaz passe à travers les première et seconde couches de filtre pour communiquer de façon fluide avec l'outil de traitement de semi-conducteur. de préférence, la première couche de filtre du système de filtration est en amont le long du trajet d'écoulement de gaz à partir de la seconde couche de filtre. les milieux des première et seconde couches de filtre sont choisis et disposés sur la base de concentrations en contaminants données. l'invention concerne également un procédé de filtration de gaz en relation avec un outil de traitement de semi-conducteur, qui emploie un système comprenant une première et une seconde couches de filtre.
the present invention provides a filtering system for a semiconductor processing tool. in one embodiment, the filtering system is associated with the semiconductor processing tool. a system of the invention comprises a first and second filter layer in fluid communication with a gas flow path. the flow path is a gas stream comprising volatile silica containing compounds such as hexamethyldisiloxane and trimethylsilanol. the gas flow path passes through the first and second filter layer to fluidly communicate with the semiconductor processing tool. preferably, the first filter layer of the filtering system is upstream along the gas flow path from the second filter layer. the medias of the first and second filter layers are selected and arranged based on given contaminant concentrations. the invention also provides a method for filtering gas containing hexamethyldisiloxane and trimethylsilanol in communication with a semiconductor processing tool, which employs a system comprising a first and second filter layer.
Last Update: 2011-07-27
Usage Frequency: 1
Quality: