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polierslurry

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polishing slurry

Última actualización: 2014-11-28
Frecuencia de uso: 2
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polierslurry aus silika

Inglés

a silica-based slurry

Última actualización: 2014-11-28
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nach der herstellung der polierslurry wurden die wafer direkt poliert.

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the wafers were polished immediately after the polishing slurry had been produced.

Última actualización: 2014-12-03
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daher findet die polierslurry vom typ des kolloidalen siliciumdioxids eine zunehmende verbreitung.

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therefore, the polishing slurry belonging to the colloidal silica category is becoming increasingly widespread.

Última actualización: 2014-12-03
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in diesem versuch wurde eine polierslurry mit 10 vol.-% h o hergestellt.

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comparative example 1 [0052] in this experiment, a polishing slurry comprising 10% by volume of h o was prepared.

Última actualización: 2014-12-03
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der ph-wert der polierslurry betrug 11,0. die ergebnisse sind in tabelle 1 dargestellt.

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the ph of the polishing slurry was 11.0. the results are given in table 1.

Última actualización: 2014-12-03
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bewertungsmaßstab für die wirksamkeit von polierslurries sind eine reihe von größen, mit denen die wirkung der polierslurry charakterisiert wird.

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[0012] a range of parameters which are used to characterize the effect of the polishing slurry are used as an assessment scale for the effectiveness of polishing slurries.

Última actualización: 2014-12-03
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anschließend wird eine zweite polierslurry verwendet, um die endgültige ebene oberfläche mit dem blank polierten dielektrikum und den eingebetteten leiterbahnen herzustellen.

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then, a second polishing slurry is used in order to produce the final planar surface with the brightly polished dielectric and the embedded interconnects.

Última actualización: 2014-12-03
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zunächst wird eine polierslurry auf ein elastomeres poliertuch (pad) oder direkt auf die zu polierende wafer-oberfläche aufgetragen.

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first of all, a polishing slurry is applied to an elastomeric polishing pad or directly to the wafer surface which is to be polished.

Última actualización: 2014-12-03
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somit werden beim einsatz der polierslurry aus pyrogener kieselsäure defekte wie oberflächen-rauhigkeit und mikrokratzer auf der polierten halbleiter-oberfläche verursacht.

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therefore, when using the polishing slurry comprising pyrogenic silica, defects such as surface roughness and microscratches are produced on the polished semiconductor surface.

Última actualización: 2014-12-03
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