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Anglais

sputtering

Grec

ιονοβολή

Dernière mise à jour : 2014-11-14
Fréquence d'utilisation : 5
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

sputtering machine

Grec

μηχανές εφαρμογής επικάλυψης με καθοδικό διασκορπισμό

Dernière mise à jour : 2014-11-15
Fréquence d'utilisation : 5
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

radio frequency sputtering

Grec

καθοδική επίχριση με ραδιοσυχνότητες

Dernière mise à jour : 2014-11-15
Fréquence d'utilisation : 5
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

metallized by sputtering with copper on one side or on both sides,

Grec

με μεταλλική επίστρωση χαλκού με καθοδικό ψεκασμό σε μία πλευρά ή και στις δύο,

Dernière mise à jour : 2014-11-21
Fréquence d'utilisation : 2
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

metallized by sputtering with copper and plated on one side or on both sides with refined copper or

Grec

με μεταλλική επίστρωση χαλκού με καθοδικό ψεκασμό και στρώση (πλακέ) στη μία πλευρά ή και στις δυο με εξευγενισμένο χαλκό ή

Dernière mise à jour : 2014-11-21
Fréquence d'utilisation : 2
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (lcd) substrates

Grec

Συσκευές για φυσική εναπόθεση με καθοδικό διασκορπισμό σε υποστρώματα για διατάξεις υγρών κρυστάλλων (lcd)

Dernière mise à jour : 2014-11-21
Fréquence d'utilisation : 2
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

mercury used as a cathode sputtering inhibitor in dc plasma displays with a content up to 30 mg per display

Grec

Υδράργυρος που χρησιμεύει ως αναστολέας καθοδικού ψεκασμού σε οθόνες πλάσματος συνεχούς ρεύματος, με συγκέντρωση υδραργύρου έως και 30 mg ανά οθόνη

Dernière mise à jour : 2014-11-21
Fréquence d'utilisation : 2
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

parts of apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (lcd) substrates

Grec

Μέρη για συσκευές για φυσική εναπόθεση με καθοδικό διασκορπισμό σε υποστρώματα για διατάξεις υγρών κρυστάλλων

Dernière mise à jour : 2014-11-21
Fréquence d'utilisation : 2
Qualité :

Référence: IATE

Anglais

(iii) equipment for the preparation of samples which for thin-layer samples use such methods as electro-spraying, vacuum evaporation, sputtering, and for thicker samples, sintering, fusion, rolling and electrochemical deposition;

Grec

- εγκαταστάσεις για την προετοιμασία δειγμάτων, με τη χρήση μεθόδων όπως, για τα δείγματα σε λεπτή επίστρωση, ο ηλεκτρονικός ψεκασμός (electrospraying), η εξάτμιση σε κενό, το «sputtering» (επιμετάλλωση ανόδου)· για δείγματα μεγαλύτερου πάχους, η όπτηση, η τήξη, η ελασματοποίηση και η ηλεκτροχημική απόθεση-

Dernière mise à jour : 2014-02-06
Fréquence d'utilisation : 2
Qualité :

Référence: IATE

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