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Italien

dispositivo autoallineato con doppio livello di silicio policristallino

Français

dispositif auto-aligné en double polysilicium

Dernière mise à jour : 2014-11-14
Fréquence d'utilisation : 1
Qualité :

Référence: IATE

Italien

con il primo di essi (progetto 2430), philips (nl) ha ora portato a termine lo sviluppo del suo processo cmos bipolare di 1 micron, con transistori autoallineati n-p-n a doppio livello di silicio policristallino ed un emittente al silicio policristallino di siliciuro, mentre siemens (d) ha prodotto i primi dimostratori con processo di 0,8 micron orientato digitalmente con un isolamento trench molto avanzato.

Français

dans le cadre du premier (projet 2430), philips (nl) a terminé au jourd'hui la mise au point de son procédé cmos bipolaire à 1 micron comprenant des transistors de type n-p-n double-poly auto-ali-gnés et un émetteur au siliciure de polysilicium; tandis que siemens (d) a produit les premiers démonstrateurs dans le cadre de son procédé à 0,8 micron à orientation numéri

Dernière mise à jour : 2014-02-06
Fréquence d'utilisation : 1
Qualité :

Référence: IATE

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