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Italiano

dispositivo autoallineato con doppio livello di silicio policristallino

Francese

dispositif auto-aligné en double polysilicium

Ultimo aggiornamento 2014-11-14
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità:

Riferimento: IATE

Italiano

con il primo di essi (progetto 2430), philips (nl) ha ora portato a termine lo sviluppo del suo processo cmos bipolare di 1 micron, con transistori autoallineati n-p-n a doppio livello di silicio policristallino ed un emittente al silicio policristallino di siliciuro, mentre siemens (d) ha prodotto i primi dimostratori con processo di 0,8 micron orientato digitalmente con un isolamento trench molto avanzato.

Francese

dans le cadre du premier (projet 2430), philips (nl) a terminé au jourd'hui la mise au point de son procédé cmos bipolaire à 1 micron comprenant des transistors de type n-p-n double-poly auto-ali-gnés et un émetteur au siliciure de polysilicium; tandis que siemens (d) a produit les premiers démonstrateurs dans le cadre de son procédé à 0,8 micron à orientation numéri

Ultimo aggiornamento 2014-02-06
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità:

Riferimento: IATE

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