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l'invention concerne un procédé et un dispositif permettant de graver une couche antireflet organique (oarc) et une couche antireflet de nitrure de titane (tin arc) déposées sur un substrat placé dans une enceinte de traitement, sans qu'il soit nécessaire de retirer le substrat de l'enceinte de traitement et sans qu'il soit nécessaire de procéder à des opérations de traitement intermédiaires comme par exemple un nettoyage de l'enceinte
the present invention is embodied in a method and apparatus for etching an organic anti-reflective coating (oarc) layer and a titanium nitride anti-reflective coating (tin arc) layer deposited on a substrate located within a processing chamber, without the need for removing the substrate being processed from the processing chamber in which it is situated and without the need for intervening processing steps, such as chamber cleaning operations
