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herstellungsverfahren für halbleitervorrichtungen und durchsichtige maske für den geladenen teilchenstrahl
méthode de fabrication de dispositifs semiconducteurs et masque transparent au faisceau de particules chargées
bestrahlungssystem mit geladenem teilchenstrahl und extraktionsverfahren für einen geladenen teilchenstrahl
système d'irradiation à faisceau par particules chargées et procédé d'extraction de faisceau par particules chargées
reflektionsmaske und eine solche reflektionsmaske verwendendes geladenes teilchenstrahl-belichtungsgerät
masque réfléchissant et appareil d'exposition par faisceau de particules chargées utilisant un tel masque réfléchissant
gerät zur belichtung mittels geladenem teilchenstrahl mit einer trägertisch-positionsmesseinrichtung
appareil d'exposition par faisceau de particules chargées avec un dispositif de mesure de position d'un support porte-objet
elektrostatische linsenanordnung für eine röhre mit geladenem teilchenstrahl und verfahren zu ihrem betrieb
arrangement de lentilles électrostatiques pour tube à faisceau de particules chargées et méthode d'utilisation de celui-ci
positioniervorrichtung, geladenen-teilchenstrahl-belichtungsvorrichtung und verfahren zur herstellung einer halbleitervorrichtung
dispositif de positionnement, appareil d'exposition par faisceau de particules chargé et procédé de fabrication d'un dispositif semiconducteur
reparatur von defekten auf fotomasken mit einem geladenen teilchenstrahl und topographische daten aus einem raster sondenmikroskop
reparation de defauts sur des photomasques a l'aide d'un faisceau de particules chargees et de donnees topographiques obtenues a partir d'un microscope-sonde a balayage