プロの翻訳者、企業、ウェブページから自由に利用できる翻訳レポジトリまで。
positieve „resists” ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 245 nm;
positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;
最終更新： 2014-11-21
使用頻度： 6
品質：