検索ワード: schaltplatinen (ドイツ語 - フランス語)

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ドイツ語

フランス語

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ドイツ語

vorrichtung und verfahren für die bestückung von schaltplatinen.

フランス語

dispositif et procédé pour équiper des plaques de circuit.

最終更新: 2014-12-03
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ドイツ語

anordnung von keramischen schaltplatinen mit leistungsverteilung und kühlsystem

フランス語

assemblage de cartes de circuits imprimés en céramique avec distribution de puissance et système de refroidissement

最終更新: 2014-12-03
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ドイツ語

verfahren und vorrichtung für die verarbeitung von gedruckten schaltplatinen.

フランス語

procédé et dispositif pour le traitement de platines de circuits imprimés.

最終更新: 2014-12-03
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ドイツ語

verfahren für das drucken einer abbildung auf einem substrat, insbesondere geeignet für die herstellung von gedruckten schaltplatinen

フランス語

procédé pour imprimer une image sur un substrat convenant, notamment pour la fabrication de platines de circuit imprimés

最終更新: 2014-12-03
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ドイツ語

direkter elektrostatischer druckprozess zur erzeugung eines widerstandsfähigen musters auf einer leitfähigen oberfläche und seine verwendung bei der herstellung von elektrischen schaltplatinen

フランス語

procédé d'impression électrostatique directe pour la formation d'un motif résistant sur un substrat conducteur et utilisation dans la fabrication de circuits imprimés

最終更新: 2014-12-03
使用頻度: 1
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ドイツ語

computersystem gemäß anspruch 32, wobei die ersten und zweiten schaltplatinen (350a, 350b) hot-swappable sind.

フランス語

système informatique selon la revendication 32, dans lequel lesdites première et seconde cartes de circuit imprimé (350a, 350b) sont remplaçables à chaud.

最終更新: 2014-12-03
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ドイツ語

anordnung nach einem der vorhergehenden ansprüche, bei dem eine der ersten und zweiten elektronischen schaltplatinen (10, 12) eine seite besitzt, die von dem abgedichteten gehäuse wegweist und gegenüber einer prozeßumgebung freiliegt.

フランス語

assemblage comme exposé dans l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'une des deux, de ladite première et de ladite seconde cartes de circuits intégrés (10, 12), a une face qui fait face en sens opposé à l'enceinte étanche et qui est exposée à un environnement de processus.

最終更新: 2014-12-03
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