검색어: fotolithografie (독일어 - 영어)

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fotolithografie

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photolithography

마지막 업데이트: 2014-03-06
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lichtoptische fotolithografie

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photolithography

마지막 업데이트: 2014-11-14
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fotolithografie | photolithographie

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photo-lithography

마지막 업데이트: 2014-11-14
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fotolithografie (halbleitertechnik)

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photolithography

마지막 업데이트: 2015-06-14
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* fotoresist in der fotolithografie

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many exceptions exist however, e.g.

마지막 업데이트: 2016-03-03
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zusammensetzungen und verfahren für fotolithografie

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compositions and process for photolithography

마지막 업데이트: 2014-11-28
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anwendungen von halbleiterpartikeln mit nanogrÖsse fÜr die fotolithografie

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applications of semiconductor nano-sized particles for photolithography

마지막 업데이트: 2014-11-28
사용 빈도: 2
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meist wird zur definition von strukturen der mikrotechnik die fotolithografie verwandt.

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the distinctions in these terms are relatively minor and are often used interchangeably.

마지막 업데이트: 2016-03-03
사용 빈도: 2
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ergänzende anmerkung:für asphärische optische elemente, besonders konstruiert für die fotolithografie: siehe nummer 3b001.

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n.b.:for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.

마지막 업데이트: 2016-12-19
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4.2.1 fotolithografie: hiermit wird, kurz gesagt, der prozess bezeichnet, durch den computerchips mit strukturinformation versehen werden.

영어

4.2.1 photolithography: this is, broadly, the process by which computer chips are patterned.

마지막 업데이트: 2017-04-06
사용 빈도: 1
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«phänomenale fortschritte» erwartet eigler bei der fotolithografie, also der beschrei-bung herkömmlicher halbleiter. trotzdem warnt er vor übertriebenen hoffnungen.

영어

he is also expecting “phenomenal progress” in the area of photolithography, i.e. the way that conventional semiconductors are fabricated.

마지막 업데이트: 2018-02-13
사용 빈도: 1
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euv-lithografie (auch kurz euvl) ist ein fotolithografie-verfahren, das elektromagnetische strahlung mit einer wellenlänge von 13,5 nm (91,82 ev) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette strahlung (, euv).

영어

extreme ultraviolet lithography (also known as "euv" or "euvl") is a next-generation lithography technology using an extreme ultraviolet (euv) wavelength, currently expected to be 13.5 nm.

마지막 업데이트: 2016-03-03
사용 빈도: 2
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