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fotolithografie
photolithography

lichtoptische fotolithografie
photolithography

fotolithografie | photolithographie
photo-lithography

fotolithografie (halbleitertechnik)
photolithography

* fotoresist in der fotolithografie
many exceptions exist however, e.g.

zusammensetzungen und verfahren für fotolithografie
compositions and process for photolithography

anwendungen von halbleiterpartikeln mit nanogrÖsse fÜr die fotolithografie
applications of semiconductor nano-sized particles for photolithography

meist wird zur definition von strukturen der mikrotechnik die fotolithografie verwandt.
the distinctions in these terms are relatively minor and are often used interchangeably.

ergänzende anmerkung:für asphärische optische elemente, besonders konstruiert für die fotolithografie: siehe nummer 3b001.
n.b.:for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.

4.2.1 fotolithografie: hiermit wird, kurz gesagt, der prozess bezeichnet, durch den computerchips mit strukturinformation versehen werden.
4.2.1 photolithography: this is, broadly, the process by which computer chips are patterned.

«phänomenale fortschritte» erwartet eigler bei der fotolithografie, also der beschrei-bung herkömmlicher halbleiter. trotzdem warnt er vor übertriebenen hoffnungen.
he is also expecting “phenomenal progress” in the area of photolithography, i.e. the way that conventional semiconductors are fabricated.

euv-lithografie (auch kurz euvl) ist ein fotolithografie-verfahren, das elektromagnetische strahlung mit einer wellenlänge von 13,5 nm (91,82 ev) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette strahlung (, euv).
extreme ultraviolet lithography (also known as "euv" or "euvl") is a next-generation lithography technology using an extreme ultraviolet (euv) wavelength, currently expected to be 13.5 nm.