Você procurou por: zwischenschichtisolierfilms (Alemão - Inglês)

polierschlamm nach anspruch 1, der ein polierschlamm für einen zwischenschichtisolierfilm zum polieren eines halbleiters ist, umfassend 10 bis 50 gew.-% quarzstaub mit einer durchschnittlichen primärteilchengröße von 9 bis 20 nm und 90 bis 50 gew.-% des sphärischen siliziumdioxids mit einer durchschnittlichen primärteilchengröße von 60 bis 300 nm als verhältnis zu den gesamten siliziumdioxiden.
the polishing slurry as described in claim 1, being a polishing slurry for an interlayer insulating film in polishing a semiconductor and comprising 10 to 50 % by weight of the fumed silica having an average primary particle size of 9 to 20 nm and 90 to 50 % by weight of the spherical silica having an average primary particle size of 60 to 300 nm in terms of a proportion to the whole silicas.