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interlevel deviation

German

interstufenabweichung

Last Update: 2014-11-14
Usage Frequency: 3
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Reference: IATE

English

photodefinable interlevel dielectrics.

German

photodefizierbare dielektrika-zwischenschicht.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

integrated circuit with interlevel dielectric

German

integrierte schaltung mit dielektrischer zwischenschicht

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method for fabricating interlevel contacts.

German

verfahren zum herstellen von zwischenschicht-kontakten.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

apparatus and method for interlevel dielectric planarization.

German

vorrichtung und verfahren zur planarisierung einer dielektrischen zwischenschicht.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method for forming controlled voids in interlevel dielectric

German

verfahren zur herstellung von kontrollierten hohlräumen in einer dielektrischen zwischenschicht

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

bi-level pinball machine providing interlevel ball travel.

German

doppelniveauflipper mit ballspiel über beide ebenen.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

method and interlevel dielectric structure for improved metal step coverage.

German

verfahren und struktur der dielektrischen zwischenschicht zur verbesserten metallischen stufenbeschichtung.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

multilayer wiring board, interlevel connector, and method for making same.

German

mehrschichtige leiterplatte, zwischenverbindungsteil und verfahren zur herstellung.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

method filling interlevel dielectric via or contact holes in multilevel vlsi metallization structures.

German

verfahren zum auffüllen von verbindungs- oder kontaktlöchern in einer mehrlagigen vlsi-metallisierungsstruktur.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

deposition of amorphous silicon for the formation of interlevel dielectrics in semiconductor memory devices.

German

niederschlagung von amorphen silizium zur herstellung dielektrischer zwischenschichten für halbleiter speicherzellen.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

integration of low-k polymers into interlevel dielectrics using controlled electron-beam radiation

German

integration von niedrigen k polymer in dielektrishen zwischenschicht unter verwendung von kontrollierten elektronenstrahlen

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

methods of forming an interlevel dielectric layer between different levels of metal layers in the fabrication of integrated circuit

German

verfahren zur herstellung einer dielektrischen zwischenschicht zwischen mehrlagen-metallisierungen zur herstellung integrierter schaltungen

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method for depositing a selected thickness of an interlevel dielectric material to achieve optimum global planarity on a semiconductor wafer

German

verfahren zur abscheidung einer ausgewÄhlten schichtdicke eines dielektrischen zwischenschichtmaterials, um optimale globale planaritÄt auf einem halbleiterwafer zu erzielen

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

process for forming a sion/sio2 interlevel dielectric with after-treatment of the cvd silicium oxynitride layer

German

verfahren zur herstellung einer sion/sio2 dielektrischen zwischenschicht mit einer nachbehandlung der cvd silizium oxynitridschicht

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

method of fabicating low-dielectric constant interlevel dielectric films for beol interconnects with enhanced adhesion and low-defect density

German

verfahren zur herstellung von dielektrischen zwischenschichten mit niedriger dielektrizitÄtskonstante fÜr beol-verbindungsleitungen mit verbesserter haftung und niedriger fehlerdichte

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

an ultralow dielectric constant material as an intralevel or interlevel dielectric in a semiconductor device, a method for fabricating the same, and an electronic device containing the same

German

ein material mit ultra-niedriger dielektrizitÄtskonstante als dielektrikum innerhalb einer schicht oder zwischen schichten in einem halbleiterbauelement, ein verfahren zu dessen herstellung und ein elektronisches bauelement mit diesem material

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

the device according to claim 1, characterized in that the interlevel insulator (15) includes a buffer layer (16) of a conductive material therein.

German

einrichtung nach anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der zwischenniveau-isolator (15) eine pufferschicht (16) aus einem leitenden material darin umfaßt.

Last Update: 2014-12-05
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

process for producing interconnecting lines and interlevels via crossings in an integrated circuit.

German

verfahren zur herstellung von verbindungslinien und von kreuzungspunkten verschiedener metallisierungsebenen auf einer integrierten schaltung.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

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