From professional translators, enterprises, web pages and freely available translation repositories.
metallised by sputtering with copper on one side or on both sides,
metalizēta apsmidzinot ar varu no vienas vai abām pusēm,
Last Update: 2014-11-21
Usage Frequency: 1
Quality:
metallised by sputtering with copper and plated on one side or on both sides with refined copper or
metalizēta apsmidzinot ar varu un pārklāta no vienas vai abām pusēm ar attīrītu varu vai
Last Update: 2014-11-21
Usage Frequency: 1
Quality:
apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (lcd) substrates
aparatūra fiziskai nogulsnēšanai ar izsmidzināšanu uz lcd substrātiem
Last Update: 2014-11-21
Usage Frequency: 2
Quality:
mercury used as a cathode sputtering inhibitor in dc plasma displays with a content up to 30 mg per display
dzīvsudrabs, ko izmanto par katoda noārdīšanās inhibitoru līdzstrāvas plazmas displejos daudzumā līdz 30 mg vienam displejam
Last Update: 2014-11-21
Usage Frequency: 2
Quality:
parts of apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (lcd) substrates
daļas aparatūrai fiziskai nogulsnēšanai ar izsmidzināšanu uz lcd substrātiem
Last Update: 2014-11-21
Usage Frequency: 2
Quality:
mercury used as a cathode sputtering inhibitor in dc plasma displays with a content up to 30 mg per display until 1 july 2010.
dzīvsudrabs, ko izmanto par katoda noārdīšanās inhibitoru līdzstrāvas plazmas displejos daudzumā līdz 30 mg vienam displejam, līdz 2010. gada 1. jūlijam.
Last Update: 2014-11-21
Usage Frequency: 1
Quality:
substitution for mercury used as a cathode sputtering inhibitor in dc plasma displays with content of up to 30 mg per display is currently technically impracticable, but should be practicable by 1 july 2010.
patlaban tehniski nav iespējams aizstāt dzīvsudrabu, ko izmanto par katoda noārdīšanās inhibitoru līdzstrāvas plazmas displejos (līdz 30 mg vienam displejam), taču tam vajadzētu kļūt iespējamam no 2010. gada 1. jūlija.
Last Update: 2014-11-21
Usage Frequency: 1
Quality:
combined magnetron sputtering and ion implantation (cmsii) technology, developed by the association euratom - medc in romania, has been chosen as the best coating technique in terms of resistance to high heat fluxes (hhf) and will be used to provide a 10 micron (µm) w coating of around 1000 tiles for the new jet wall.
apvienotā magnetrona uzputināšanas un jonu implantēšanas (cmsii) tehnoloģija, ko izstrādājusi rumānijas asociācija eura-tom-medc, ir izvēlēta kā vislabākā pārklājuma tehnoloģija liela karstuma plūsmu (lkp) izturības ziņā, un to izmantos, lai pārklātu apmēram 1000 jaunās jet sienas flīzes ar 10 mikronu (m) volframa pārklājumu.
Last Update: 2014-02-06
Usage Frequency: 1
Quality: