Results for lithography translation from English to Swedish

lithography
litografi

euv-lithography
fiat melfi (it)

extatic lithography
fluor – litografi

photo-lithography
fotolitografi

glass for lithography
glas för litografi

nano-imprint lithography tools
verktyg för nanopräglingslitografi.

lithography equipment, as follows:
litografiutrustning med egenskaper enligt följande:

f. lithography equipment as follows:
litografisk utrustning med egenskaper enligt följande:

step and flash imprint lithography (s-fil) tools
s-fil-verktyg (step and flash imprint lithography).

for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.
för optiska speglar som är särskilt konstruerade för litografisk utrustning, se avsnitt 3b001.

imprint lithography equipment capable of producing features of 95 nm or less;
litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 95 nm eller mindre.

i. imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3a001.
schabloner för litografisk prägling som är utformade för integrerade kretsar som omfattas av avsnitt 3a001.

imprint lithography equipment capable of producing features of 180 nm or less;
litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 180 nm eller mindre.

for excimer “lasers” specially designed for lithography equipment, see 3b001.
se avsnitt 3b001 för excimer ”lasrar” som speciellt konstruerats för litografisk utrustning.

’aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
anm.:’icke-sfäriska optiska element’ som är särskilt konstruerade för litografiutrustning omfattas av avsnitt 3b001.

n.b.:for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.
anm.:för optiska speglar som är särskilt konstruerade för litografisk utrustning, se avsnitt 3b001.

the objective of the fluor project is to carry out research on the application of so called 157 nanometre lithography.
syftet med flour-projektet är att forska om tillämpningen av så kallad 157 nanometer-litografi.

n.b.:for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.
anm.:icke-sfäriska optiska element som är särskilt konstruerade för litografiutrustning omfattas av avsnitt 3b001.

n.b.: for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001
anm.: se avsnitt 3b001 för excimer-"lasrar" som speciellt konstruerats för litografisk utrustning.

the objective of the extatic project is to study the system aspects of extreme ultraviolet (euv) lithography.
syftet med extatic-projektet är att undersöka systemaspekterna av extrem ultraviolett (euv) litografi.