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De: Traduction automatique
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marking-out instruments which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof
instrumenti za označevanje, ki so aparati, ki izdelajo obliko, potrebno za izdelavo mask ali drugih izdelkov iz podlag, prevlečenih s fotoobstojnimi snovmi; njihovi deli in pribor
Dernière mise à jour : 2014-11-21
Fréquence d'utilisation : 3
Qualité :
polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits [12]
polietilenski film debeline 20 μm ali več, vendar ne več kot 40 μm, za proizvodnjo fotoobstojnih filmov, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov in tiskanih vezij [12]
Dernière mise à jour : 2014-11-21
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