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method according to claim 1, characterized in that the fringe systems are projected telecentrically.
procédé suivant la revendication 1 , caractérisé par le fait que les systèmes de bandes sont projetés de façon télécentrique.

formed as a condensing lens guiding light beams arriving from an object generally telecentrically, an aperture stop having a centre
conçue pour servir de lentille convergente et guider les faisceaux lumineux arrivant d'un objet de façon généralement télécentrique, un diaphragme d'ouverture ayant un centre

device according to claim 1, characterised in that the front screen (2) is arranged telecentrically.
dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le diaphragme amont (2) est disposé d'une manière télécentrique.

the illumination optical system enlarges the light emitting surface of the surface emission light source and forms the image thereof telecentrically on the effective surface of the optical modulation element.
le système optique d'éclairage agrandit la surface d'émission de lumière de la source de lumière à émission par la surface et forme l'image de celle-ci de façon télécentrique sur la surface effective de l'élément de modulation optique.

a method as claimed in claim 7, 8 or 9, in which the illumination with the light beam (4) is effected telecentrically.
procédé selon la revendication 7, 8 ou 9, selon lequel l'exposition avec le faisceau lumineux (4) effectue de façon télécentrique (11).

a laser engraving head (6) for use in preparing a medium for a printing process includes a deflector (aom). the deflector, which may be an acousto-optic modulator, deflects the laser beam which is focused by a lens (l) onto the surface of the medium. the lens (l) may be arranged telecentrically with respect to the deflected laser beams so that the exit pupil (p) defined by the range of deflected beams is located at the back focal plane of the means for focusing. a number of interchangeable beam expanders (20) may be provided mounted within the head and moveable so that one of the expanders is brought into the path of the beam to provide a desired cell size. control circuits for the head may modify the control signal applied to the deflector to compensate for variations as a function of deflection angle in the cell size produced on the medium. where the deflector is formed of a material, such as germanium, which is subject to thermal run-away, then the head may include sampling optics which deflect a portion of the beam upstream of the deflector and a power sensor which receives the deflected beam and is monitored to detect the incidence on the deflector of optical power exceeding a predetermined threshold.
une tête de gravure (6) au laser, utilisée pour préparer un support pour un procédé d'impression, comprend un déflecteur (aom). le déflecteur, qui peut être un modulateur acousto-optique, défléchit le faisceau laser qui est focalisé par une lentille (l) sur la surface du support. la lentille (l) peut être disposée de manière télécentrique par rapport aux faisceaux laser défléchis, de sorte que l'élément de sortie en forme de pupille (p), défini par la plage de faisceaux défléchis, est situé au niveau du plan focal postérieur du moyen de focalisation. un certain nombre d'extenseurs (20) de faisceaux interchangeables peuvent être montés dans la tête, et peuvent être déplacés de façon que l'un des extenseurs est amené dans la trajectoire du faisceau pour produire une dimension de cellule requise. des circuits de commande pour la tête peuvent modifier le signal de commande appliqué au déflecteur afin d'annuler les variations produites en fonction de l'angle de déflexion, dans la dimension de cellules produits sur le support. lorsque le déflecteur est composé d'un matériau tel que le germanium, qui a tendance à présenter un point aberrant thermique, la tête peut comprendre des éléments optiques d'échantillonnage qui défléchissent une partie du faisceau en aval par rapport au déflecteur, ainsi qu'un capteur de puissance qui reçoit le faisceau défléchi et est surveillé afin de détecter l'incidence, sur le déflecteur, d'une puissance optique dépassant un seuil prédéterminé.