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verfahren zur herstellung einer isolationsgrabenstruktur mit verbundoxydschichten
method of forming a trench isolation structure utilizing composite oxide films

isolationsgrabenstruktur für integrierte schaltung und verfahren zur herstellung.
trench isolation structure in an integrated circuit and method of formation.

isolationsgrabenstruktur, hableiteranordnung mit solcher isolationsgrabenstruktur, und verfahren zur herstellung derselben
trench isolation structure, semiconductor assembly comprising such a trench isolation, and method for forming such a trench isolation